Germany – Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) – ALD-Anlage

Scope of works

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Type

Contract award

Contract Award

Sector

Laboratory & Scientific Equipment

Procedure

open

Classification

38000000

Original notice

Sign in to open the original notice

Source provenance (1)

Every portal notice that contributed to this record, with the values each one published. Where portals disagree, the originating notice is the published record.

Key dates

1. Published at source21 Sept 2026
2. Submission deadline—